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Prozesskammer der Hochenergie-Ionenimplantation

Mithilfe der Hochenergie-Implantation können Forschende am HZDR-Ionenstrahlzentrum die Eigenschaften verschiedenster Materialien gezielt ändern und verbessern. Das Verfahren wird unter anderem in der Halbleitertechnik genutzt, um innovative Bauelementkonzepte umzusetzen.